G25

27.06, 10:50-11:10

Protsenko P.V., Murashov V.A., Eustathopoulos N.
Features of spreading coupled with substrate dissolution.

Проценко П.В., Мурашов В.А., Эстатопулос Н.
Особенности растекания при растворении подложки.

Russia / Россия

The aim of the present study is to identify experimentally the physicochemical factors governing dissolutive wetting. Spreading was studied by the dispensed drop technique at 1100 °C in high vacuum. A model system consists of monocrystalline Si and pure Cu or Cu presaturated in silicone. Two stages of dissolutive spreading were revealed: 1–fast spreading similar to immiscible couples, and 2–slower spreading controlled by dissolution of substrate in drop.

Рассмотрены физико-химические факторы, определяющие характер растекания при растворении подложки в расплаве. Методом перенесенной капли в вакууме при 1100 °C изучено растекание Cu и насыщенного расплава Cu—Si по поверхности Si. Показано, что растекание при растворении происходит в две стадии: 1—быстрое растекание аналогичное случаю несмешивающихся систем и 2—медленная стадия, на которой скорость растекания контролируется скоростью растворения.